XAD-200多功能全自動XRF

XAD-200是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區RoHS檢測及多元素成分分析，先進的算法及解譜技術解決了諸多業界難題。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。 

• 微小樣品檢測：最小測量面積0.008mm2

• 變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-90mm

• 自主研發的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層檢測，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精準測量

• 先進的解譜技術：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測器

• X射線裝置：微焦加強型射線管搭配聚焦裝置

• 上照式設計：實現對超大樣品或者密集點位進行快、準、穩高效率測量

• 可編程自動位移：選配自動平臺，X210*Y230*Z145mm行程內無人值守自動測量

• 多準直器自動切換

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分最低檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層最低檢出限：0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm2）

    標配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm2）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm

8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm

9. 儀器重量：100KG

10. XY軸工作臺移動范圍：100mm*150mm

11. XY軸工作臺最大承重：15KG

廣泛應用于電鍍行業、通訊行業、汽車行業、五金建材、航空航天、環保檢測、地質地礦、水暖衛浴、精密電子、珠寶首飾和古董、鋰電行業等多種領域。

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機多用，無損檢測（涂鍍層檢測-環保RoHS-成分分析）

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-90mm的異形件

4.輕元素，重復鍍層，同種元素不同層亦可檢測