XAU-4C多功能XRF

XAU-4C是一款設計結構緊湊，模塊精密化程度極高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設計，是一款一機多用型光譜儀。

應用核心EFP算法和微光聚集技術，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區RoHS檢測及成分分析。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

• 微小樣品檢測：最小測量面積0.03mm2（加長測量時間可小至0.01mm2）

• 變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達0-30mm

• 自主研發的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚至有同種元素在不同層也可精確測量

• 先進的解譜技術：減少能量相近元素的干擾，降低檢出限

• 高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

• 光路系統：微焦加強型射線管搭配聚集

• 多準直器自動切換

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分最低檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層最低檢出限：0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm2）

    標配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm2）

6. 對焦距離：0-30mm

7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm

8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm

9. 儀器重量：45KG

10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm

11. XY軸工作臺最大承重：5KG

廣泛應用于半導體行業、新能源行業、5G通訊、五金建材、航空航天、環保行業、汽車行業、貴金屬檢測、精密電子、電鍍行業等多種領域。

選擇一六儀器的四大理由：

1.一機多用，無損檢測（涂鍍層檢測-環保RoHS-成分分析）

2.最小測量面積0.002mm2

3.可檢測凹槽0-30mm的異形件

4.輕元素，重復鍍層，同種元素不同層亦可檢測